據(jù)新興芯片技術(shù)領(lǐng)域的專家表示,納米機(jī)電系統(tǒng)(nanoelectromechanicalsystems,簡(jiǎn)稱NEMS)雖然目前還默默無(wú)聞,但在未來(lái)可能成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界的要角。
Sematech制造聯(lián)盟新興技術(shù)副總裁RajJammy指出,其中的一個(gè)理由是,成熟的MEMS技術(shù)已經(jīng)為各種不同的傳感器,在iPhone等新潮電子產(chǎn)品中的應(yīng)用開拓了龐大新市場(chǎng),不過MEMS是針對(duì)特殊應(yīng)用的組件:“NEMS則能提供整套的潛在應(yīng)用方案!
NEMS被形容為MEMS與納米技術(shù)的結(jié)晶;在美國(guó)國(guó)防部高等研究計(jì)劃署(Drapa)掌管NEMS研究的DennisPolla表示:“如果某系統(tǒng)有一個(gè)關(guān)鍵機(jī)械零件或架構(gòu)的尺寸小于1微米(micrometer),并且能整合其它不同的零件,那就是NENS。”他指出,該單位認(rèn)為NEMS技術(shù)就是“下一場(chǎng)微型化革命”。
Darpa正在研究將NEMS技術(shù)與傳感器、致動(dòng)器(actuators)、電子組件與光學(xué)組件、甚至微流體組件整合的方法。而Sematech的Jammy則表示,從制造部門的角度來(lái)看:“沒有人是真正在研究NEMS領(lǐng)域,也就是我們?cè)撊绾螌EMS整合進(jìn)CMOS制程?”
在日前(12月7~9日)于美國(guó)舉行的2009年國(guó)際電子組件會(huì)議(IEDM)上,至少有9個(gè)研究單位發(fā)表了有關(guān)NEMS技術(shù)的論文,題目包括NEMSCMOS內(nèi)存等應(yīng)用;事實(shí)上,IEEE自2006年起就贊助NEMS技術(shù)會(huì)議,其第五屆年會(huì)預(yù)計(jì)明年1月20~23日在中國(guó)廈門舉行。
Jammy的觀點(diǎn)是,現(xiàn)在時(shí)機(jī)已經(jīng)成熟,可開始研究進(jìn)行采用現(xiàn)有CMOS制程技術(shù)生產(chǎn)新式NEMS組件的方法:“要真正掌握該種組件的潛能,得用CMOS制程而非一般
MEMS制程來(lái)生產(chǎn),好讓NEMS組件是與CMOS兼容的。”
NEMS組件與其它許多新興IC技術(shù)一樣訴求低功耗特性,不過NEMS組件還有其它優(yōu)勢(shì),包括高速度(gigahertz)、低漏電、與現(xiàn)有CMOS制造設(shè)備兼容,以及可進(jìn)軍傳統(tǒng)芯片無(wú)法運(yùn)作之嚴(yán)苛環(huán)境,開創(chuàng)一系列特殊應(yīng)用。
這意味著NEMS的角色將不只是做為iPhone內(nèi)的觸控傳感器;Jammy舉例說(shuō)明,相關(guān)的嚴(yán)苛環(huán)境應(yīng)用包括汽車、工業(yè)領(lǐng)域的儲(chǔ)存設(shè)備,或是RF與生物醫(yī)療應(yīng)用等等。Darpa也在研究NEMS組件的軍事應(yīng)用。
在組件層級(jí),Sematech正與加州柏克萊大學(xué)、史丹佛大學(xué)等單位的研究人員合作,開發(fā)采用NEMS技術(shù)的內(nèi)存組件,以及號(hào)稱“零泄漏”的NEMS開關(guān)(switch),或是與CMOS技術(shù)整合的混合式開關(guān)組件。
在IEDM上所發(fā)表的NEMS研究,則包括整合NEMS與CMOS技術(shù)所制造、稱為“鰭式正反器致動(dòng)通道晶體管(finflip-flopactuatedchanneltransistor)的組件,以及采用納米級(jí)石墨烯(graphene)材料所制造的低耗電NEMS開關(guān)組件。■
來(lái)源:與非網(wǎng)
http:leisuda.cn/news/2009-12/2009121716409.html

