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富士通計劃投資10.5億美元建新半導(dǎo)體工廠

2006/1/13 9:54:46   電源在線網(wǎng)
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  日本富士通公司周三宣布,由于日本對微芯片需求日益增長,必須擴展芯片產(chǎn)能適應(yīng)增長的需求,公司計劃投資10.5億美元建立第二個微芯片工廠。

  富士通公司表示,將在日本三重縣(Mie prefecture)中部建立新的微芯片工廠,預(yù)計2007年4月新工廠可以投入運營制造芯片。新工廠將采用先進的65納米制程,生產(chǎn)300毫米晶圓用來制造系統(tǒng)芯片。


  富士通公司指出,由于300毫米晶圓制造的芯片是200毫米晶圓的二倍,這樣將有助于富士通公司降低芯片的制造成本,以較低的芯片價格與對 手進行競爭。

  目前在全球芯片制造行業(yè),較為先進的芯片制造商普遍采用90納米制程,采用更先進的65納米制程能夠縮小芯片的體積,幫助芯片迅速的處理數(shù)據(jù),同時也降低了芯片的 制造費用。

  未來兩年內(nèi) 富士通公司計劃將投資1200億日元,使新工廠每月生產(chǎn)的晶圓產(chǎn)量達到10000片。富士通公司現(xiàn)有的300毫米晶圓工廠正在運作,公司計劃將提高現(xiàn)有工廠的產(chǎn)能,在2007年三月份之前每月生產(chǎn)的晶圓 達到 15000片。

  據(jù)業(yè)界統(tǒng)計機構(gòu)全球半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計組織(WSTS)公布最新數(shù)據(jù)稱,去年全球半導(dǎo)體的需求同比增長了 6.6%,今年全球?qū)ξ⑿酒男枨蟊热ツ陮⒃鲩L8%,明年的需求將增長到10.6%。

  消息也經(jīng)傳出, 富士通公司的股票上漲了4%以1004日元(合8.75美元)報收。
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