產(chǎn)品介紹：
氧化電源是針對(duì)氧化特點(diǎn)設(shè)計(jì)。由于其輸出波形為方波，對(duì)于封孔質(zhì)量比較有利，降低由于溫度升高造成的膜的溶解作用，防止氧化膜孔口的擴(kuò)大，有利于氧化層硬度和致密度的提高，有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量，提高成品率。

一、概述:
本產(chǎn)品系統(tǒng)采用了多環(huán)控制技術(shù),結(jié)構(gòu)上采取了防鹽霧酸化措施。研制成新一代低壓大電流高頻開關(guān)電源，以體積小，重量輕，高效率，高可靠的優(yōu)越性能成為可控電源的更新?lián)Q代產(chǎn)品。

二、特點(diǎn):
1.節(jié)電顯著，省電10%-30%，效率達(dá)90%以上；
2.所有設(shè)備出廠前已經(jīng)過嚴(yán)格檢測(cè)和長(zhǎng)時(shí)間老化試驗(yàn)，可連續(xù)工作達(dá)1萬個(gè)小時(shí)；
3.體積小，重量輕，操作簡(jiǎn)單，安裝和維修十分方便，略懂電路人員即可安裝更換；
4.電流，電壓及工作時(shí)間數(shù)字顯示；
5.穩(wěn)壓，穩(wěn)流控制選擇；
6.具備計(jì)算機(jī)接口功能（可選）
三、技術(shù)指標(biāo):
輸入電壓：380V±10%，額定頻率為50Hz；
輸出電壓：0~24VDC；（高壓可定制）
輸出電流：0~15000ADC；（全范圍可調(diào)）
電壓電流精度：1%
四、應(yīng)用特點(diǎn):
1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度,促使晶核細(xì)化。
2、 改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。
3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層(如顏色、無孔隙等)的厚度可減少到原來1/3~1/2,節(jié)省原材料。
4、 降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。
5、 有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。
6、 改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。
7、 改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能,如提高密度降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。
傳統(tǒng)的電鍍抑制副作用的產(chǎn)生、改善電流分布、調(diào)節(jié)液相傳質(zhì)過程、控制結(jié)晶取向顯得毫無作用,面對(duì)絡(luò)合劑和添加劑的研究成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開關(guān)電源解決了傳統(tǒng)整流器存在的缺陷。
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